二硫化鎢納米片(WS?納米片)作為典型的過渡金屬硫化物材料,是一種半導(dǎo)體材料,其晶體結(jié)構(gòu)為六方晶系(空間群P6?/mmc),每層由W原子層夾在兩層S原子層之間形成三明治結(jié)構(gòu)。研究表明,單層WS?具有約1.8eV的直接帶隙,這一特性使其在光電器件領(lǐng)域展現(xiàn)出優(yōu)於間接帶隙半導(dǎo)體的量子效率;單層WS?的室溫載流子遷移率可達(dá)100-300cm2/V?s,電子濃度約為1×1012cm?2,顯著優(yōu)於傳統(tǒng)矽基材料。值得注意的是,WS?納米片的電子遷移率呈現(xiàn)明顯的厚度依賴性,多層結(jié)構(gòu)如10層的遷移率可降至50cm2/V?s以下,這與層間聲子散射增強(qiáng)密切相關(guān)。

中鎢線上二硫化鎢圖片
WS?納米片的載流子遷移率是衡量其電學(xué)性能的關(guān)鍵指標(biāo)之一。研究表明,在室溫條件下,基於WS?納米片的場(chǎng)效應(yīng)電晶體(FET)的載流子遷移率可達(dá)531.41cm2·V?1·s?1,這一性能接近於理論值。此外,WS?納米片的電子有效品質(zhì)較小(0.738m?),這有助於實(shí)現(xiàn)較高的電子遷移率。

中鎢線上二硫化鎢圖片
WS?納米片的電學(xué)性能與其層數(shù)密切相關(guān)。隨著層數(shù)的減少,量子限域效應(yīng)增強(qiáng),導(dǎo)致其帶隙增大,電學(xué)性能發(fā)生顯著變化。例如,單層二硫化鎢納米片表現(xiàn)出更高的載流子遷移率和開關(guān)比,而多層結(jié)構(gòu)則更適合用於需要較高電導(dǎo)率的應(yīng)用。
值得一提的是,WS?納米片憑藉著優(yōu)異的電化學(xué)性能,廣泛應(yīng)用于儲(chǔ)能領(lǐng)域,能夠顯著提高電池的能量密度。此外,二硫化鎢納米片還具有良好的迴圈穩(wěn)定性和倍率性能,這使其在高性能電池電極材料中具有重要應(yīng)用潛力。
版權(quán)及法律問題聲明
本文資訊由中鎢線上?(www.bgemi.cn,news.chinatungsten.com)根據(jù)各方公開的資料和新聞收集編寫,僅為向本公司網(wǎng)站、微信公眾號(hào)關(guān)注者提供參考資料。任何異議、侵權(quán)和不當(dāng)問題請(qǐng)向本網(wǎng)站回饋,我們將立即予以處理。未經(jīng)中鎢線上授權(quán),不得全文或部分轉(zhuǎn)載,不得對(duì)檔所載內(nèi)容進(jìn)行使用、披露、分發(fā)或變更;儘管我們努力提供可靠、準(zhǔn)確和完整的資訊,但我們無法保證此類資訊的準(zhǔn)確性或完整性,本文作者對(duì)任何錯(cuò)誤或遺漏不承擔(dān)任何責(zé)任,亦沒有義務(wù)補(bǔ)充、修訂或更正文中的任何資訊;本文中提供的資訊僅供參考,不應(yīng)被視為投資說明書、購買或出售任何投資的招攬檔、或作為參與任何特定交易策略的推薦;本文也不得用作任何投資決策的依據(jù),或作為道德、法律依據(jù)或證據(jù)。