三酸化タングステンは三酸化タングステン薄膜の製造に使用でき、さらに相補(bǔ)型全固體エレクトロクロミック窓の組み立てに使用できる。では、エレクトロクロミック層として機(jī)能するWO3薄膜はどのように製造すればよいのでしょうか。電子ビーム蒸発法により作製した専門(mén)家がいる。
詳細(xì)については、次のページを參照してください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
コンプリメンタリ型全固體エレクトロクロミック窓用三酸化タングステン
純WO3粉末の圧結(jié)直徑1 cmの円柱を分析し、蒸発源として黒鉛るつぼ內(nèi)に置いた?；澶险降挚?00Ω/ITO膜導(dǎo)電性ガラスであり、10%硫酸を10分間浸漬した後、脫イオン水で數(shù)回超音波洗浄し、その後乾燥した。基板溫度は80℃、蒸発成膜速度は9 nm/min、通常の蒸発時(shí)間は15 minであった。蒸発したばかりのW 03フィルムは青色を呈していた。
