酸化タングステン薄膜は、建築用ガラスに適用してエレクトロクロミックスマートガラスを得ることができる機(jī)能性フィルムです。異なる基板溫度が酸化タングステン膜の構(gòu)造と性能に與える影響を研究するために、一部の専門家は金屬タングステン（純度99.9％）をターゲット材料として使用し、コーティング裝置を使用してパルスDC電源を介してFTO透明導(dǎo)電性ガラス基板上にWO3膜をスパッタ堆積しました。具體的な手順は以下のとおりです。
詳細(xì)については、以下をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
スパッタリングの前に、コーティングチャンバーの背景真空は 4.5×10-4Pa 未満まで排気されました。作動(dòng)ガスとして高純度アルゴン（99.9％Ar）、反応ガスとして高純度酸素（99.9％O2）を使用しました。動(dòng)作圧力は1.7Paに固定され、Ar流量は15sccm、O2流量は13sccmでした?；鍦囟趣蚴覝亍?00℃、300℃、350℃と変化させることで、基板溫度の異なる酸化タングステン膜を堆積し、膜厚を250±10nmに制御した。
