硅電力電子器件鉬片鍍鎳方法
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本發(fā)明涉及一種硅電力電子器件鉬片鍍鎮(zhèn)方法，其特征是：所述鉬片放入滾筒內(nèi)一起浸入 鍍液中滾鍍，鍍液中含硫酸鎳250g/L、氯化鎮(zhèn) 50g/L、硼酸45g/L和硫酸鎂20g/L ;鍍液溫度 40-55 °C, pH值為8-9，滾筒轉(zhuǎn)速10-15轉(zhuǎn)/分， 電鍍電源陽(yáng)極與電鍍的金屬鎳板連接，陽(yáng)極電流 80-90A,陰極引入滾筒內(nèi)與鉬片接觸，電鍍時(shí)間 40-60分鐘;鉬片一次鍍鎳后倒出滾筒用清水清 洗干凈，然后烘干按常規(guī)放進(jìn)通氫爐合金，退火后按上述方法重復(fù)進(jìn)行第二次鍍鎳，再倒出鉬片清 洗、烘干完成。所述鉬片鍍鎳層厚度易控制，且操作方便，鍍液可重復(fù)使用。
1. 一種硅電力電子器件鑰片鍍鎳方法，其特征是：所述鑰片放入滾筒內(nèi)一起浸入鍍液中滾鍍，鍍液中含硫酸鎳250g/L、氯化鎳50g/L、硼酸45g/L和硫酸鎂20g/L ;鍍液溫度為 40-55°C, PH值為8-9，滾筒轉(zhuǎn)速10-15轉(zhuǎn)/分，電鍍電源陽(yáng)極與電鍍的金屬鎳板連接，陽(yáng)極 電流80-90A，陰極引入滾筒內(nèi)與鑰片接觸，電鍍時(shí)間40-60分鐘;鑰片一次鍍鎳后倒出滾筒用清水清洗干凈，然后烘干按常規(guī)放進(jìn)通氫爐合金，退火后按上述方法重復(fù)進(jìn)行第二次鍍 鎳，再倒出鉬片清洗、烘干完成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅電力電子器件鑰片鍍鎳方法，其特征是：所述滾筒正 反兩方向輪流轉(zhuǎn)動(dòng)。
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